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化学气相沉积系统(冷壁CVD)

化学气相沉积系统(冷壁CVD)

冷壁CVD 生长设备是对现有石英管式炉CVD 生长设备功耗大、控制性差、产量低等缺点开发出来的一款新型CVD 生长设备。该设备不仅可以用于石墨烯生长,还可用于六角氮化硼等二维材料薄膜、MBE 薄膜及复合薄膜生长。

1.背景气压低,杂质气体干扰少。
2. 参数控制性好,实验重现性高。
3. 可扩展性强,可以定制原位金属电极
     蒸镀参杂等功能。
4. 能耗低,产量高,适用于工业化生产
(大型冷壁CVD)。

技术参数:





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